系统，开始一行行地编写、优化控制程序。
他要突破这台duv光刻机原有的设计限制。
通过优化激光脉冲控制、掩模版对准算法、浸没系统流体动力学模型等等，尽可能地将它的加工精度推向28纳米的极限水平。
手指在键盘上飞快敲击，屏幕上滚动着复杂的代码和参数。
他一边写，一边忍不住小声吐槽，仿佛在跟这台机器对话：
“光源稳定性还得再提百分之五啧，这原来的热补偿模型也太粗糙了”
“对准精度理论上还能压榨出几个皮米试试这个新算法”
“好了，这下扫描步进和同步控制的延迟应该能降到最低了”
他全神贯注，完全沉浸在了代码的世界里。
不知过了多久，一段核心程序优化完毕，他伸了个懒腰，看着屏幕上运行成功的提示，成就感油然而生。
他站起身，拍了拍光刻机冰冷的金属外壳，脸上露出一个带着点无奈又充满自豪的笑容，自言自语地总结道：
“好家伙，我这可真是不仅要手搓机床，现在连手搓芯片的程序都得自己来了。为了搞点好东西，我可真是太棒了！”